涂層設備

磁控濺射離子-等離子涂層     

1. 功能：利用磁控濺射離子-等離子技術，材料表面多功能膜制備，納米結構圖層、生物相容性涂層、半導體涂層等。

2. 技術特征：高真空與離子-等離子技術結合；等離子體與帶電粒子束磁控管的結合產生具有獨特性能的涂層。針對不同目的、不同的體需要改變離子等離子涂層。

3. 應用領域：航空高溫材料耐熱涂層制備，光學鍍膜，納米科技，醫學，電子器件等。

高能束-等離子束制備涂層     

功能：利用等離子技術在材料表面制備多層膜

高能離子注入表面改性設備     

功能：通過離子注入改善材料表面抗腐蝕性、抗摩擦性、耐熱性能等。

加速脈沖離子-等離子設備     

1. 功能：材料表面改性，功能膜制備。

2. 技術：脈沖離子加速器結合磁控濺射技術在同一腔內產生高能離子-等離子束，對材料表面鍍膜或改性。